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微納3D精密制造之門

nanoArchR P140 系統簡介

nanoArch P140是可以實現高精度微尺度3D打印的設備系統,它采用的是面投影微立體光刻(PμSL:Projection Micro Stereolithography)技術。該技術使用高精密紫外光刻投影系統,將需打印圖案投影到樹脂槽液面,在液面固化樹脂并快速微立體成型,從數字模型直接加工三維復雜的模型和樣件,完成樣品的制作。該技術具備成型效率高、打印精度高等突出優勢,被認為是目前最有前景的微納加工技術之一。

微納3D打印先行者和領導者

作為微納3D打印先行者和領導者,在三維復雜結構微納加工領域,BMF Material團隊擁有超過二十年的科研經驗,針對客戶在項目研究中可能出現的工藝和材料難題,我們將持續提供簡易高效的技術支持方案。

3D打印系統

nanoArch P140是3D打印系統,擁有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印層厚,從而實現超高精度的樣件制作,非常適合高校和研究機構用于科學研究及應用創新。
3D打印系統
3D打印系統

3D打印系統

nanoArch P140是3D打印系統,擁有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印層厚,從而實現超高精度的樣件制作,非常適合高校和研究機構用于科學研究及應用創新。

nanoArchR P140 系統性能

光源

UV-LED(405nm)

打印材料

光敏樹脂

光學精度

10μm

XY打印精度

10~ 40μm

打印層厚

10~40μm

打印樣品尺寸

19.2mm(L)*10.8mm(W)*45mm(H)

打印文件格式

STL

系統外形尺寸

1000mm(L)×700mm(W)×1600(H)mm3

機器外形尺寸

650mm(L)×650mm(W)×750(H)mm3

重量

300kg

電氣要求

200~240V AC,50/60HZ,3KW

其他要求

部分工藝可選配加速模塊及涂層模塊

設備功率

2000W

注:①、樣品高度典型10mm,最高45mm

微納制造 精密必現

nanoArch P140是可以實現高精度微尺度3D打印的設備系統,它采用的是面投影微立體光刻技術(PμSL:Projection Micro Stereolithography)
微納制造 精密必現
nanoArch P140是可以實現高精度微尺度3D打印的設備系統,它采用的是面投影微立體光刻技術(PμSL:Projection Micro Stereolithography)

打印材料

高強度材料(GR/HTL)

非常適合高強度產品快速原型
(prototype)打印和制造,強度接近工程材料PC。

韌性材料(HEK/HD/UTL)

性能類似ABS材料,適合有卡扣等有裝配關系的原型結構件加工和測試。

耐高溫材料(HTL)

熱變形溫度142℃(@0.45MPa),適用于高溫環境下使用,例如醫療器械高溫消毒等應用。

生物相容性材料(BIO)

通過了生物相容性認證,適用于食品、牙科和醫療器械等行業。

打印材料

高強度材料(GR/HTL)

非常適合高強度產品快速原型
(prototype)打印和制造,強度接近工程材料PC。

韌性材料(HEK/HD/UTL)

性能類似ABS材料,適合有卡扣等有裝配關系的原型結構件加工和測試。

耐高溫材料(HTL)

熱變形溫度142℃(@0.45MPa),適用于高溫環境下使用,例如醫療器械高溫消毒等應用。

生物相容性材料(BIO)

通過了生物相容性認證,適用于食品、牙科和醫療器械等行業。

系統特點

高精度
(140系列的10μm)

低層厚
(10μm~40μm的打印層厚效果對比)
點擊查看

nanoArch P140
打印精度:10~ 40μm,層厚10~40μm。
普通光固化機器
打印精度:30μm,層厚20μm。
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光學監控系統,自動對焦功能

配置氣浮平臺,提高打印質量

優良的光源穩定性

配備完善的樣品后處理組件
包括抽真空及紫外后固化

應用案例

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